2022年年报点评：盈利新高，新品进展亮眼
中微公司(688012)
事件概述：3月30日，中微公司发布2022年报。公司4Q22单季度实现收入16.97亿元，同比增长63.88%；实现归母净利润3.77亿元，同比下降19.75%；实现扣非净利润2.76亿元，同比增长72.79%。
收入稳健增长，盈利再创新高。得益于半导体设备国产化推进，公司刻蚀设备份额持续提升，2022年公司收入增长52.5%，达到47.40亿元，Q4单季度实现收入16.97亿元，同比增长63.88%，环比增长58.45%。利润端，4Q22毛利率达到46.15%创下新高，同比提升1.4pct，环比提升0.4pct。4Q22单季度实现归母净利润3.77亿元，同比下降19.75%，主要因为2021年同期有较高的公允价值收益和投资收益。4Q22实现扣非净利润2.76亿元，同比增长72.79%。
订单方面，公司依旧维持了较高的订单增速，2022全年新签订单63.2亿元，同比增长53.0%，对应Q4单季度新签订单6.8亿元，同比增长11.4%。
刻蚀主业份额持续提升，突破先进制程。作为国内刻蚀设备龙头，公司在维持CCP刻蚀领先地位，市场占有率不断提升，同时ICP刻蚀亦实现收入放量。2022年公司刻蚀设备收入31.47亿元，同比增长57.1%，毛利率达47.0%，同比提升2.7pct。于此同时，公司刻蚀设备不断突破先进制程工艺，在国际领先的5nm及以下生产线上，公司CCP刻蚀设备存量超过200台反应台，市占率约11%。在逻辑芯片工艺中，公司推出大马士革刻蚀设备，在存储器工艺中，公司推出极高深宽比刻蚀机，均即将完成推向市场。
多种薄膜设备新品蓄势待发。除了刻蚀主业的强劲增长表现，公司亦布局了多款薄膜设备新品，部分产品已进入客户验证阶段。
1）LPCVD：公司钨填充PCVD设备已经完成稳定性测试和客户测验证，并在开发新型号CVD设备以实现更高深宽比填充。
2）ALD：用于高端存储和逻辑器件的氮化钛薄膜ALD设备已在实验室验证阶段，ALD钨设备已在关键客户对接验证。
3）EPI：用于28nm以下制程锗硅外延生长工艺的EPI设备研发顺利，已进入样机制造和调试阶段。
4）MOCVD：制造硅基氮化镓功率器件用MOCVD设备已交付国内外客户并获得重复订单；用于碳化硅功率器件应用的外延设备也正在开发中，2023年将交付样机至客户端开展生产验证。
投资建议：我们预计公司2023-2025年营收分别为62.93/81.20/104.82亿元，归母净利润14.47/18.73/24.39亿元，对应现价PE分别为70/54/41倍，看好公司在半导体设备国产化进程中的领先优势，维持“推荐”评级。
风险提示：产品验证不及预期；下游行业周期性波动；市场竞争加剧。
