公司事件点评报告：刻蚀设备持续突破，薄膜+光学检测设备未来可期
中微公司(688012)
事件
投资要点
营收加速增长，刻蚀设备市占率不断提高受益于半导体设备的国产化进程及公司产品的竞争优势，2022 年实现营业收入 47.40 亿元，同比增长 52.50%，十年来保持 35%以上增长率；扣非后归母净利润 9.19 亿元，同比增长 183.44%；新签订单达 63.2 亿元，同比增长 53.0%。营收增长主要系公司等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，市场占有率不断提高，在国际最先进的 5nm 芯片生产线及下一代更先进的生产线上均实现了多次批量销售，主打产品 MOCVD 设备在新一代 Mini-LED 产业化中，在蓝绿光LED 生产线上取得了绝对领先的地位。盈利能力方面， 2022年公司毛利率 45.74%（同比+2.38pct），扣非净利率 19.40%（同比+0.56pct），整体盈利水平持续提高。费用方面，2022 年公司实现销售、管理、财务费用率分别为 8.62%（同比 -0.90pct ） 、 17.75% （ 同 比 -1.56pct ） 、 -3.19% （ -0.91pct），费用率均有下降。研发费用方面， 2022 年全年研发费用 7.75 亿元，同比增长 30.11%，费用率为 19.59%（同比-3.82pct），研发费用率高于科创板均值。
CCP & ICP & MOCVD 核心设备不断突破，看好未来市场份额持续提升
公司出货的核心设备包括 CCP、 ICP、 MOCVD 设备，均取得较大进展。 CCP 刻蚀设备： 2022 年共生产付运 475 个 CCP 刻蚀反应腔，同比+59.40%。双反应台刻蚀机在国际最先进的 5nm 芯片生产线及下一代更先进的生产线上均实现了多次批量销售。刻蚀设备不仅在 3D NAND 的生产线被广泛应用，还成功的通过了多个动态存储器的工艺验证。逻辑器件的一体化大马士革刻蚀工艺和存储器件的极高深宽比刻蚀技术并取得良好进展，即将进入市场。 ICP 刻蚀设备： 2022 年推出高深宽比结构刻蚀和高均匀性刻蚀两种 ICP 设备，在全面满足55m， 4n0nm 和 28 nm 逻辑芯片制造中的 ICP 刻蚀工艺的基础上，拓展了在 DRAM、 3D NAND 存储芯片和特色器件等芯片制造中的可刻蚀应用范围。在超过 20 个客户的逻辑、 DRAM和 3D NAND 等器件的生产线上进行超过 100 多个 ICP 刻蚀工艺的量产。 MOCVD 设备： 截至 2022 年累计 MOCVD 产品出货量超过 500 腔，在氮化镓基 MOCVD 设备和 Mini-LED 显示外延片生产设备处于国际领先， 针对 Micro-LED 应用的专用 MOCVD 设备正开发中，启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发。公司在 CCP、 ICP、 MOCVD 设备中不断突破，看好未来市场份额进一步加大。
薄膜设备 & 光学检测设备进展喜人，期待未来持续放量突破
公司布局的薄膜设备和光学检测设备进展喜人。 薄膜设备：首台 CVD 钨设备付运到关键存储客户端验证评估，计划研发更多的先进 CVD 和 ALD 设备， 锗硅 EPI 设备已进入样机的设计、 制造和调试阶段，预计薄膜设备的覆盖率将进一步增加。 光学检测设备： 公司投资睿励仪器布局光学检测设备，2022 年增资后持股 34.75%，睿励仪器是国内少数几家进入国际领先的 12 英寸生产线的企业，是国内唯一进入某韩国领先芯片生产企业的国产集成电路设备企业。根据 Gartner 数据，薄膜沉积、检测设备分别是市场规模排名第二和第四的半导体设备， 2022 年市场规模分别为 1540 亿元和 825 亿元。公司在薄膜设备和光学检测设备两方面的布局进展喜人，所处市场空间广阔，未来有望伴随国产替代加速化演进，实现持续放量突破。
盈利预测
预测公司 2023-2025 年收入分别为 61.69、 79.68、 98.20 亿元， EPS 分别为 2.35、 2.92、 3.51 元，当前股价对应 PE 分别为 78.2、 63.1、 52.4 倍， 维持“买入” 投资评级。
风险提示
半导体市场需求不及预期；下游晶圆制造产能扩充不及预期风险；零部件短缺风险；新设备研发进度不及预期风险等
