公司事件点评报告：2023H1业绩大幅提升，刻蚀+MOCVD双轮驱动成长
中微公司(688012)
事件
中微公司发布2023年半年报：公司上半年实现营收25.27亿元，同比增长28.13%；实现归母净利润10.03亿元，同比增长114.40%。经计算，公司2023年Q2单季度实现营收13.03亿元，环比增长6.57%；实现归母净利润7.28亿元，环比增长164.23%。
投资要点
刻蚀+MOCVD带动营收增长，盈利能力持续提高
公司2023年H1实现营收25.27亿元，同比增长28.13%。分产品来看，公司的刻蚀设备在国内外的市占率不断提高，实现收入17.22亿元，同比增长约32.53%；MOCVD设备在蓝绿光LED生产线上继续保持绝对领先的地位，实现收入2.99亿元，同比增长约24.11%。
在利润端，公司整体毛利率45.89%，同比增加0.53pct，其中刻蚀设备毛利率为46.16%，MOCVD设备毛利率为37.90%。毛利率提高叠加公司出售拓荆科技股票产生非经常性收益4.06亿元，使得公司归母净利润同比增长114.40%，为10.03亿元。
加大研发投入，扩充集成电路设备新品
公司加大研发，深耕集成电路关键设备领域，2023年上半年研发投入为4.60亿元，同比增长32.96%，占收入比例为18.22%。（1）刻蚀设备：针对28nm及以下逻辑器件的一体化大马士革刻蚀工艺开发的可调节电极间距的CCP刻蚀机PrimoSD-RIE已经进入客户验证阶段；超高深宽比刻蚀机已经在客户端验证出具有刻蚀≥60:1深宽比结构的能力；ICP刻蚀设备在12英寸的3D芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证，在全面满足55nm、40nm和28nm逻辑芯片制造中ICP刻蚀工艺要求的基础上，拓展了在先进逻辑、先进DRAM、更多层的3DNAND存储芯片和特色器件等芯片制造中的应用范围。（2）沉积薄膜设备：公司首台CVD钨设备已如期完成多道工艺验证，更多应用正在验证当中；生产高端存储器件的关键设备新型号CVD钨和ALD钨设备，已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试；应用于先进存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备预期在2023年下半年发往客户端进行量产验证。
积极拓展泛半导体领域设备，丰富产品矩阵
公司积极拓展在泛半导体关键设备领域应用，探索其他新兴领域的机会。PrismoUniMax®设备拓展了公司的MOCVD设备产品线，公司正与更多客户合作进行设备评估，扩大市场推广。公司也紧跟市场发展趋势，针对Micro-LED应用的专用MOCVD设备正在开发中。同时，公司积极布局用于功率器件应用的第三代半导体设备市场，用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备PrismoPD5®目前已交付国内外领先客户进行生产验证，并且正在开发下一代用于氮化镓功率器件制造的新型MOCVD设备。公司还启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发，目前实验室样机取得初步进展，将于2023年内交付样机至客户端开展生产验证。
盈利预测
预测公司2023-2025年收入分别为62.04、79.83、102.11亿元，EPS分别为2.87、3.02、3.82元，当前股价对应PE分别为51、49、39倍，我们看好公司在集成电路+泛半导体领域关键设备的业务布局，维持“买入”评级。
风险提示
下游客户扩产不及预期风险，上游供应链产能紧张风险，贸易摩擦风险，技术迭代风险等。
