机械一周解一惑系列：真空镀膜设备国产化进程持续推进

　　本周关注：灿勤科技、华中数控

　　真空镀膜是表面处理技术的一项分支，是指为了减少杂质的干扰，在高度真空环境下，通过物理或化学手段，将金属、非金属或化合物材料（膜材）转换成气态或等离子态，并沉积于玻璃、金属、陶瓷、塑料或有机材料等固体材质（简称基材、基板或基片）表面形成薄膜的过程。利用真空镀膜技术镀制薄膜后，可使材料表面获得新的复合性能并实现新型的工程应用，赋予材料表面新的机械功能、装饰功能和声、电、光、磁及其转换等特殊功能（例如防辐射、增减透光、导电或绝缘、导磁、抗氧化、耐磨损耐高温耐腐蚀等），从而改善产品原有性能、提高产品质量、延长产品寿命等。和传统镀膜方法（如电镀、化学镀膜）相比，真空镀膜使用的镀膜材料种类更丰富、膜层厚度更易控制、附着力更强、适用范围更广，在操作过程中更加节能、安全、环保。

　　真空镀膜技术与传统的电镀、热浸镀技术相比较，主要有三大优势：一是不影响被镀材料的质量，在加热镀膜材料时，不需要过高温度，因此不会出现被镀材料在几何尺寸上发生变形或降低材质性能等现象；二是可以较大范围内自由选择镀膜材料，更容易在组成和构造上对膜材进行控制；三是镀膜过程与电镀、热浸镀技术相比，对周围环境影响更小。

　　物理气相沉积法主要分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。1）蒸发镀膜：真空条件下，通过加热靶材使其气化，然后在真空环境中将气体分子沉积到基片表面形成薄膜。根据加热方法不同，蒸发镀膜又分为热蒸发和电子束蒸发。2）溅射镀膜：通过高能粒子轰击靶材，使材料原子脱离靶材表面并沉积到基片上的技术。主要的溅射技术包括直流溅射、射频溅射和磁控溅射。3）离子镀膜：真空条件下，通过等离子体电离技术离化镀料靶材，靶材分子部分电离。基片外接高压负极。在深度负偏压下靶材分子向基片运动，沉积到基片表面形成薄膜。

　　受益于下游行业需求高景气，我国真空镀膜设备行业空间稳步增长。2018-2022年，我国真空镀膜设备行业空间由356.32亿元增长至577.87亿元，CAGR为12.85%。我国真空镀膜设备产业细分格局为包含了PVD镀膜设备、CVD镀膜设备、磁控溅射设备以及其他种类的真空铍膜设备这四大类别，2022年我国真空镀膜设备中磁控溅射设备、CVD设备、PVD镀膜设备占比分别为55.42%、36.59%、6.98%。竞争格局方面，高端真空镀膜设备市场主要被应用材料（Applied Materials Inc.）、爱发科（ULVAC）、德国莱宝（Leybold）等资金实力雄厚、技术水平领先、产业经验丰富的跨国公司所占领。我国的真空镀膜设备制造业起步于20世纪60年代，主要应用领域局限于军工和小件装饰镀膜，此后真空镀膜设备产品线的广度与深度一直在增加。目前，我国真空镀膜设备制造业经过了几十年发展，形成了门类齐全、布局合理、品种丰富、真空镀膜技术水平与镀膜工业发展基本适应的体系。真空镀膜设备制造行业的上下游相关行业持续不断的发展壮大，更多企业将进入本行业参与竞争，行业竞争将日益激烈，国产化进程有望持续推进。

　　投资建议：建议关注真空镀膜设备相关企业：汇成真空，腾胜科技（未上市）。

　　风险提示：1）技术路线发生变更的风险。2）市场竞争的风险。3）下游需求不及预期的风险。