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拓荆科技-研报正文

公司简评报告:先进制程放量带动营收高增,薄膜沉积+三维集成协同并进

K图

  拓荆科技(688072)

  投资要点

  事件概述: 根据公司发布2026半年度业绩报告, 2026上半年公司营业总收入为29.13亿元( yoy+49.06%),归母净利润为13.43亿元( yoy+1324.10%),销售毛利率为41.00%( yoy+9.05pct)。公司2026Q2营业总收入为18.00亿元( yoy+44.56%, qoq+61.85%),归 母 净 利 润 为 7.72 亿 元 ( yoy+220.08% , qoq+35.32% ), 销 售 毛 利 率 为 40.58%( yoy+1.76pct, qoq-1.11pct)。

  先进制程放量驱动业绩加速释放。 公司在先进制程领域取得关键突破,多款高端设备在客户端批量通过验证并进入规模化量产,带动营收实现同比增长。与此同时,生产规模效应逐步释放,叠加新工艺设备量产应用有效摊薄单位成本, 2026年上半年营业成本增幅( 29.24%)显著低于营收增速( 49.06%),毛利率同比提升约9个百分点至41%,产品盈利能力显著增强。

  公司依托自主核心技术, 构建了较为完善的“薄膜沉积+三维集成”的产品格局。 薄膜沉积领域,公司以PECVD、 ALD、 SACVD、 HDPCVD、 Flowable CVD为核心,实现了全系列布局。其中PECVD已覆盖全部薄膜材料,广泛应用于逻辑和存储芯片; ALD设备在国内装机量与工艺覆盖度上均领先; HDPCVD、 SACVD、 Flowable CVD可满足不同深宽比结构的填充需求,已在多条产线产业化应用。 同时, 公司已累计出货超3800个反应腔,进入约100条生产线;累计流片量约6亿片,机台平均运行时间超90%,达到国际同类设备水平。三维集成领域,公司推出的混合键合与熔融键合设备已陆续推向市场,部分通过客户验证并进入稳步放量阶段,成功应用于先进存储/逻辑、先进封装、图像传感器等场景。随着后摩尔时代芯片技术路径从平面微缩转向三维堆叠,键合设备受益于3D NAND、 HBM、Chiplet等多领域需求共振,有望成为公司中长期重要增长极。

  投资建议: 公司构建了较为完善的薄膜沉积与三维集成设备产品矩阵, 同时下游需求旺盛叠加国产替代加速,为业绩增长提供有力支撑。 我们预计公司2026-2028年营业收入分别为99.61、 133.48、 170.80亿元( 2026、 2027年原预测值分别是84.46、 105.97亿元),同比增速分别为52.79%、 34.00%、 27.96%;预计公司2026-2028年归母净利润分别为20.39、29.78、 39.29亿元( 2026、 2027年原预测值分别是16.27、 24.48亿元),同比增长分别为120.01%、 46.05%、 31.96%。当前市值对应2026、 2027、 2028年的PE分别为96、 66、50倍,维持“买入”评级。

  风险提示: 1) 下游扩产不及预期风险; 2) 产品验证周期不及预期风险; 3) 行业竞争加剧风险。

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